光触媒分散机

光触媒分散机 光触媒高剪切分散机 光触媒高速均质机 光触媒纳米级分散机 光触媒在线式研磨分散机 光触媒研磨均质机    光触媒高剪切均质机
光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称，它涂布于基材表面，在紫外光及可见光的作用下，产生强烈催化降解功能：能有效地降解空气中有毒有害气体；能有效杀灭多种细菌，并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理；同时还具备除甲醛、除臭、抗污、净化空气等功能。

纳米级的二氧化钛在研磨细化的状态下本身具有团聚的现象这样的话就不能够很好的发挥二氧化钛的特性。我司研发的高剪切研磨分散机不仅可以将二氧化钛进行更细的研磨还可以对二氧化钛进行分散，高转速的研磨均质分散配合分散剂这样能够更好地发挥二氧化钛的特性。



北京某公司在我公司用的研磨分散机做的光触媒催化剂效果非常好，刚开始一些问题不能够解决在我们的建议之下加入了膨胀石墨效果明显加强。

影响纳米材料分散要素：

1、分散介质

（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和**溶剂，纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。

2、分散剂

（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

（2）分散剂的用量，与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

（3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强极性**溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。中等极性**溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，推荐使用TNEDIS 



高剪切研磨分散机介绍

**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

*二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是*转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验*工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出较终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

型号

标准流量L/H

输出转速Rpm

标准线速度m/s

马达功率KW

进口尺寸

出口尺寸

KZSD2000/4

300-1，000

18，000

51

4

DN25

DN15

KZSD2000/5

1，000-1,500

13，500

51

11

DN40

DN32

KZSD2000/10

3，000

9，300

51

22

DN50

DN50

KZSD2000/20

8，000

3，600

51

37

DN80

DN65

KZSD2000/30

20，000

3，600

51

75

DN150

DN125

KZSD2000/50

40，000

2，500

51

160

DN200

DN150

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

 

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 

3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。

 

4 本表的数据因技术改动,定制而不同,正确的参数以提供的实物为准。

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